真空機器・除振・防振の課題解決が我々の使命です!

サイトマップ
    製品情報 > 要素技術 > 加熱装置

要素技術 加熱装置

  • 成膜装置内や真空内での熱処理
  • 室温〜3000℃
  • 雰囲気、加熱面積を考慮した最適なヒータ選定(ランプ・埋め込みヒータ・セラミック・レーザ・高周波など)

レーザ加熱 (マニュピレータ付)

レーザ加熱 (マニュピレータ付)

 

赤外線ランプ加熱

赤外線ランプ加熱

 

高周波加熱 (コイル部)

高周波加熱 (コイル部)

↑ページのトップへ