真空機器・除振・防振の課題解決が我々の使命です！

要素技術　加熱装置

• 成膜装置内や真空内での熱処理
• 室温〜３０００℃
• 雰囲気、加熱面積を考慮した最適なヒータ選定（ランプ・埋め込みヒータ・セラミック・レーザ・高周波など）

レーザ加熱 （マニュピレータ付）

 

赤外線ランプ加熱

 

高周波加熱 （コイル部）

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