真空機器・除振・防振の課題解決が我々の使命です!

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高周波用4軸マイクロプローバー

高周波用4軸マイクロプローバー

マイクロプローバー

  • 省スペース、薄型のチャンバ
  • プローブ本数2〜6本
  • DC・高周波プローブ( 〜20GHz)、フィードスルーの選択が可能
  • 試料ステージへ低温〜加熱機構の導入が可能
  • 高真空〜超高真空領域の対応

 

各種成膜装置

  • 真空蒸着・イオンプレーティング装置
  • マグネトロンスパッタリング装置(RF・DC/2〜4インチマグネトロンガン)
  • レーザーアブレーション(PLD)装置

PLD・スパッタ
複合装置

2インチ3元
スパッタリング装置

EB・抵抗加熱
複合蒸着装置

EB・抵抗加熱複合蒸着装置

 

 

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  • 各種研究開発用CVD 装置

・ プラズマ・熱・LP・AP・MO

・ 1インチ〜4インチウエハー対応

・ オプションにて自動圧力コントロール、除害設備対応

LP−CVD装置

2 段炉式LPCVD 装置

GaN 薄膜MOCVD 装置

CNT 薄膜熱CVD 装置

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MEMS関連処理装置

  • スプレーコーティング装置
  • プラズマ・アッシング装置
  • プラズマ・エッチング(RIE)装置
  • プラズマ・酸化/窒素化装置

スプレーコーティング装置

プラスマ・アッシング装置

ICP−RIE装置

スプレーコーティング装置

プラスマ・アッシング装置

ICP−RIE装置

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残留ガス分析装置

残留ガス分析装置

ブローホール内の超微量ガス成分測定
各種材料評価に最適

 

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